⚖️ LINA

SK하이닉스와 특허관리형법인 모노리식 간의 특허 분쟁에 대해 미국 국제무역위원회(ITC)가 진상조사를 개시했습니다. ITC는 특허 침해 여부를 조사하며, 손해배상은 일반 법원의 영역입니다.

소송 적합도

MEDIUM

사건 분야

지식재산권

상대방

SK하이닉스

피해 금액

미상

피해자 수

미상

진행 단계

관련절차진행  (美 국제무역위원회(ITC) 진상조사 개시)

판단 근거

SK하이닉스는 대기업으로 자력이 충분하며(적합 조건 2), 미국 국제무역위원회(ITC)의 진상조사가 개시되어 공적 절차가 진행 중이고(적합 조건 6), 이를 통해 증거 확보 가능성이 높습니다(적합 조건 5). 다만, 기사만으로는 상대방 책임의 명확성이나 구체적인 피해 규모를 파악하기 어렵습니다.

미국 특허관리전문기업(NPE) 모놀리식 3D가 SK하이닉스와 일본 키옥시아를 상대로 HBM 및 낸드플래시 특허 침해를 주장하며 미국 국제무역위원회(ITC)에 관세법 337조 위반 조사를 요청했고, ITC가 조사 개시를 결정했습니다. 이는 미국 내 제품 수입·유통·판매 금지로 이어질 수 있는 무역구제 절차로, 한국 반도체 기업들이 NPE의 표적이 되고 있다는 지적이 나옵니다. 한국 정부도 범부처 대응을 촉구하고 있습니다.

소송 적합도

HIGH

사건 분야

지식재산권

상대방

SK하이닉스

피해 금액

미상

피해자 수

미상

진행 단계

관련절차진행  (미국 국제무역위원회(ITC) 관세법 337조 위반 조사 개시)

판단 근거

대기업 피고(SK하이닉스)의 자력이 충분하며, 미국 국제무역위원회(ITC)의 관세법 337조 위반 조사 개시로 상대방 책임이 비교적 명확해지고 공적 절차가 진행 중입니다. HBM 및 낸드플래시 관련 특허 침해 주장은 피해 규모가 클 가능성이 높고, 미국 내 수입·유통·판매 금지 요구는 심각한 영향을 미칠 수 있습니다.

미국 기업 모노리식이 SK하이닉스를 상대로 고대역폭 메모리(HBM) 특허 침해 소송을 제기했습니다. 모노리식은 재판부에 특허침해 판결, 고의 침해 판결, 침해 제품 가처분 및 영구 금지명령, 손해배상 등을 요청하며 SK하이닉스의 HBM 공급망에 위기가 점화될 수 있음을 시사했습니다.

소송 적합도

HIGH

사건 분야

지식재산권

상대방

SK하이닉스

피해 금액

미상

피해자 수

미상

진행 단계

소송중  (모노리식이 재판부에 특허침해 판결, 고의 침해 판결, 침해 제품 가처분 및 영구 금지명령, 손해배상 등을 요청)

판단 근거

SK하이닉스라는 대기업을 상대로 특허 침해 소송이 진행 중이며(적합 조건 2), HBM이라는 핵심 기술 분야의 특허 침해로 인한 손해배상 및 판매 금지 요청은 피해 규모가 매우 클 것으로 예상됩니다(적합 조건 4). 이미 소송이 제기되어 법적 절차가 진행 중입니다.